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RIE反應離子刻蝕機(ReactiveIonEtcher)作為一款融合等離子體物理與化學刻蝕的精密設備，能實現對材料的高選擇性、高anisotropy(各向異性)刻蝕，憑借刻蝕精度高、工藝可控性強的優勢，成為微納加工領域不可少的核心裝備。RIE反應離子刻蝕機的核心優勢源于“物理轟...

紫外臭氧清洗機的核心功能，是利用紫外線照射產生臭氧，通過臭氧的強氧化性和紫外線的光解作用，分解去除物體表面的有機污染物，同時實現一定的殺菌消毒效果。其核心作用圍繞“無殘留清洗、精密防護、潔凈保障”展開，具體可分為三類：有機污染物精準去除。這是最核心的功能。無論是半導體晶圓表面的有...

氧等離子清洗機的核心功能是去除材料表面有機污染物、氧化物及顆粒，同時改善表面親水性、粘接性能或引入功能性官能團。選購前需明確以下需求：材料類型：不同材料(如金屬、塑料、玻璃、陶瓷)對等離子體的響應存在差異。例如，塑料表面可能需通過氧等離子處理增強粘接性，而金屬表面則需去除氧化物層...

邀請您為推動科學事業的發展，感謝各位科研工作者對CIF工作的支持。CIF將在2025年大力推進論文獎勵計劃，獎勵總金額為十萬元整。希望各位科研工作者使用我司產品發出更多、更優秀的文章，現公布論文獎勵政策如下：獎勵規則：?文章(正文或SI)中必須寫清產品名稱及型號，并包含公司名稱“...

等離子清洗機中等離子體的產生是在密閉的反應腔體(真空室)內，通過真空泵將腔體內的氣體抽至設定的真空度。然后通入氬、氫、氮氣等工藝氣體，啟動等離子發生器，使反應腔體內電極之間產生高壓交變電場。這個高壓交變電場會加速自由電子的能量，去激發工藝氣體分子形成等離子體。等離子體是物質的一種...

2025年9月26日至30日，為期五天的2025年全國電子顯微學學術年會在武漢國際會議中心（武漢洲際酒店）圓滿落幕。年會學術交流內容精彩紛呈，涵蓋了球差校正透射電鏡、原位顯微學、高分辨掃描電鏡、低溫電鏡、掃描探針顯微鏡等幾乎所有前沿技術領域，并深入探討了這些技術在物理、化學、生命...

等離子表面處理儀的核心結構圍繞等離子體生成與樣品處理設計，主要包括以下模塊：等離子體發生器可通過射頻電源、微波電源或直流電源將氣體(如氬氣、氫氣、氮氣)離化為等離子態，產生包含離子、電子、活性基團等的高活性物質。真空系統由真空腔體(不銹鋼或石英材質)和真空泵(干泵或油泵)組成，用...

粉末等離子清洗機(或廣義的等離子清洗設備)通過高能等離子體對材料表面進行物理轟擊和化學改性，實現清潔、活化、刻蝕等功能，在多個行業中展現出不可替代的價值。一、電子行業：提升元器件性能與可靠性半導體制造晶圓清洗：去除光刻膠殘留、金屬氧化物等污染物，提高引線鍵合強度。例如，5G芯片封...